材料プロセス論1
Numbering Code | Year/Term | 2022 ・ Second semester | |
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Number of Credits | 2 | Course Type | Lecture |
Target Year | Master's students | Target Student | |
Language | Japanese | Day/Period | Tue.2 |
Instructor name | NAKAMURA TOSHIHIRO (Institute for Liberal Arts and Sciences Professor) | ||
Outline and Purpose of the Course | 機能性材料の構造・物性は、その作製プロセスに大きく依存することから、所望の機能を有する材料を作製するためには、適切なプロセス手法を選択し、そのプロセス条件を最適化する必要がある。本講義では、薄膜材料に焦点を絞り、その「作製プロセス」、「構造・物性の評価方法」、「デバイス応用」について解説する。 | ||
Course Goals |
1. スパッタリング法や化学気相成長法など代表的な薄膜作製プロセスの原理を説明できる。 2. 薄膜の構造・物性の評価方法の原理を理解し、対象材料に応じて適切な評価手法を選択できる。 3. 薄膜の電気・磁気・光学特性とそれを活かしたデバイス応用について理解する。 |
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Schedule and Contents |
以下の各項目について講述する。各項目には、履修者の理解の程度を確認しながら、【 】で指示した週数を充てる。各項目の講義の順序、それぞれに充てる講義週数は固定したものではなく、担当者の講義方針と履修者の背景や理解の状況に応じて、講義担当者が適切に決める。 (1)薄膜工学の基礎【1~2週】: 薄膜工学に関する基礎事項の確認 (2)薄膜作製法【3~4週】: 真空蒸着法、スパッタリング法、化学気相成長法 (3)薄膜の構造・物性評価【6~7週】: 膜厚・形状評価、結晶構造評価、組成・状態分析 (4)薄膜のデバイス応用【3~4週】: 透明導電膜、半導体デバイス、スピントロニクス、不揮発性メモリー |
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Evaluation Methods and Policy | 「レポート(課題)と小テスト(テスト・クイズ)」(70%)、ならびに、「平常点(授業への参加状況など)」(30%)により評価する。 | ||
Course Requirements | 化学、物理に関する一般知識を有していることが望ましい。 | ||
Study outside of Class (preparation and review) | 講義内容に対する記憶が新しいうちに、講義内容を整理し、不明な点が無いかどうか確認するとよい。 | ||
References, etc. |
薄膜工学 第3版, 日本学術振興会薄膜第131委員会 編集企画, 金原 粲 監修, 吉田 貞史, 近藤 高志 編著, (丸善出版, 2016年), ISBN:978-4-621-30098-5
その他、随時紹介する。 |